多晶硅主要有哪些污垢組成？在生產過程中的油脂、灰塵、水份、氯離子殘留、氧化物等，焊渣、焊藥的主要成分為鈦、錳、鉻、鐵等金屬氧化物，而切削油和防銹油及表面涂層則是一些高分子有機物，這些物質可能造成多晶硅反應速度減慢，產量降低，甚至硅反應停止。而多晶硅的清洗主要工藝為酸洗、脫脂、鈍化、干燥等，在多晶硅設備的清洗中，主要清洗還原爐、氫化爐、CDI設備、合成車間、還原氫化車間、精餾系統、中間罐、管道等主要設備。

　　生產多晶硅的工藝較多，各個國家生產廠家在開發新技術、進行技術改造的同時，通過對設備的清洗來降低能耗和保證多晶硅的產品質量。提高設備運轉率，延長使用壽命，爭取以最低的能耗，生產出更多的多晶硅產品。　

因此我們推薦超聲波清洗，借助于表面活性劑的潤濕、滲透、乳化、增溶、分散等作用, 使沾污在多晶硅表面的附著力削弱，從而脫離 多晶硅表面，而進人清洗液中被乳化，分散開。

在清洗液中超聲波清洗多晶硅其原理主要是“超聲空化”，超聲波振動在液體中傳播的音波壓強達到一個大氣壓時， 其功率密度為O.35 W/cm, 這時超聲波的音波壓強峰值就可達到真空或負壓，但實際上無負壓存在，因此在液體中產生一個很大的壓力，將液體分子拉裂成空洞一空化核，在超聲波壓強反向達到最大時破裂，由于破裂而產生的強烈沖擊將多晶硅表面的污物撞擊下來，而這種由無數細小的空化氣泡破裂而產生的沖擊波現象稱為“空化”現象。近年來，無錫雷士超聲波清洗機廠生產的雷士超聲波清洗機，在多家國內大中型多晶硅制造廠得到應用，效果非常好。

多晶硅設備主要清洗項目：

　　1、還原爐、氫化爐的清洗脫脂鈍化干燥

　　2、CDI系統設備的清洗脫脂鈍化干燥

　　3、還原氫化車間設備的清洗脫脂鈍化干燥

　　4、合成車間設備的清洗脫脂鈍化干燥

　　5、精餾工序設備的清洗脫脂鈍化干燥

　　6、中間罐區的清洗脫脂鈍化干燥

　　7、管道系統的清洗脫脂鈍化干燥