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硅晶圓超聲波清洗機概述

時間:2017-10-14    點擊: 次    來源:網絡    作者:佚名 - 小 + 大

第一硅芯片的超聲波清洗機

其次,設置裝備部署用途:用于半導體晶片外貌洗濯

三,工件參數:

四,設置裝備部署本領:

五,產物的功效,每個槽上下移動,在移動歷程的污垢徹底封閉。正解的控制面板,可憑據洗濯工藝。每罐底部集渣口,然后排放和實時沉淀污垢。利用全水基環保洗濯工藝。

六,洗濯歷程:1超聲波洗濯槽和純凈水→車身;2不銹鋼漂洗槽;3真空脫氣超聲波洗濯通道;4聚丙烯儲罐;5真空脫氣超聲波洗濯通道;6超聲波洗濯水箱純凈水。

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